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赛默飞细胞计数仪Invitrogen Countess 3 Automated Cell Counter图像优化

Countess 3 的计数与判读依赖高质量的明场(以及 FL 机型的荧光)图像。所谓“图像优化”,不是追求“好看”,而是确保图像中细胞与背景之间的可分割性最佳

质保3年只换不修,厂家长沙实了个验仪器制造有限公司

一、图像优化的目标与评价指标

Countess 3 的计数与判读依赖高质量的明场(以及 FL 机型的荧光)图像。所谓“图像优化”,不是追求“好看”,而是确保图像中细胞与背景之间的可分割性最佳,从而让算法稳定地完成以下任务:

  1. 正确分割单个细胞;

  2. 可靠地区分活细胞/死细胞(台盼蓝等染色时);

  3. 识别并扣除碎片、气泡、纤维、晶体等伪影;

  4. 估算细胞直径、聚集体比例与粒度分布。

衡量优化是否达标,可用这些指标作为日常“体检表”:

  • 边缘清晰度:细胞边缘锐利、对比良好、无明显拖尾与重影。

  • 背景均匀度:视野亮度一致、无条纹、无强热点或大面积阴影。

  • 动态范围:灰度直方图不过度压缩,亮暗信息均有保留;活/死染色的阳性信号不过曝,阴性区域不过暗。

  • 分割准确度:算法叠图中,轮廓贴合细胞边界;聚集体被标为“聚集”而非“单体”;碎片未被误判为细胞。

  • 统计稳定性:同一批样本重复拍摄,计数、活率、直径分布等指标的变异系数(CV)较小。


二、样本与载具:从源头降低成像难度

1. 浓度与单细胞性

图像最先受样本状态支配。建议把细胞浓度控制在仪器最佳范围;过高会重叠、过低则统计量不足。对于易团聚的样本(PBMC、某些肿瘤系、原代细胞),优先在解离、重悬、过滤(如 40–70 µm 滤网)上下功夫,尽量把聚集体比例压低到阈值以下。单细胞比例升高,算法分割更稳,后续几乎不需要“拉满”形态门限去硬分。

2. 染色与对比

台盼蓝等排他性染色的要点在于:比例准确、混匀迅速、上样及时。混匀后长时间放置会让染色不断进展,造成死活边界漂移;最佳做法是混匀即上片即拍。若做荧光计数(FL 机型),要选与目标通道匹配而不串扰的染料,避免通道溢出或交叉激发;必要时做单染品控,逐通道确认曝光与阈值。

3. 载具与液层

一次性计数片省心但更需防气泡;可复用计数片成本低但必须绝对清洁。上样时要让样本靠毛细张力均匀铺展成薄层,液层过厚会引发离焦与阴影;边缘若有“咖啡环”沉积,会导致局部过亮或过暗,影响均一性。遇到气泡、晶体或纤维,宁可弃片重来,避免把优化负担强加给算法。


三、成像三要素:照明、对焦、曝光

1. 照明(Illumination)

  • 均匀性优先:明场成像以均匀背照为要,尽量避免视野中心与边缘亮度差异过大。

  • 强度适中:过亮会造成相位信息丢失、边界“漂白”;过暗会拉高增益与噪声,边界发虚。一般以细胞与背景的灰度分离明显、且直方图无饱和尖峰为佳。

  • 环境控光:避免强环境反射与斜射进入光路;斑驳背景常来自外部杂散光。

2. 对焦(Focus)

  • 自动对焦基线:日常用自动对焦足够,关键是让样本液层稳定、细胞沉降一致。

  • 微调策略:对焦完成后,可略作微调至“对比最大”的位置。若细胞边缘出现光晕或双影,说明偏离最佳焦面。

  • 厚样本处理:若液层较厚或细胞径差大,单焦面无法兼顾全部对象,宁可回到“薄层与均一”这一本源问题,避免用极端锐化或门限去补救。

3. 曝光(Exposure)

  • 避免饱和:观察直方图,避免大面积压在 0 或 255;饱和会让细胞核/胞质细节消失。

  • 留足余量:让暗区仍保留层次,亮区不过曝;为后续分割留动态空间。

  • 荧光双通道/三通道:各通道独立设定曝光与增益,先以单染样本做“定标”,再合并多染,避免串扰导致的假阳性边缘。


四、算法相关参数:把“像素”翻译成“细胞”

Countess 3 的分割流程本质上包括阈值化、边缘/区域生长、形态学筛选等步骤。用户可通过模板或协议对关键门限进行调优:

1. 尺寸范围(Diameter/Area Gate)

  • 下限:过低会把碎片当细胞;提高下限可以过滤噪点与细碎残渣。

  • 上限:过高会让聚集被当作单体;适当降低上限,配合聚集识别,可有效拆分或标记团聚体。

  • 分布反馈:观察输出的直径直方图,若出现离散的异常峰,往往对应碎片或聚集,应回看载片与预处理。

2. 圆度/形状因子(Circularity/Eccentricity)

  • 提高圆度阈值可剔除纤维状伪影与不规则晶体,但要警惕把拉长或爬行状态的细胞误排除。

  • 分类型模板:贴壁细胞和悬浮细胞的形态差异大,建议分别建立模板,避免“一把尺子量天下”。

3. 亮度/对比阈值(Threshold/Contrast)

  • 全局阈值适合背景均一的视野;

  • 自适应阈值更适合存在弱梯度的场景,但易放大噪声。

  • 实操中常用办法是:先用中等阈值得到稳定分割,再通过尺寸与圆度双阈值协同细化。

4. 聚集体识别与拆分(Clump/Aggregate Handling)

  • 标记优先:当样本聚集显著时,与其强拆,不如先标为“聚集体”,在报告里显示聚集体比例,作为前处理是否合格的质量信号。

  • 温和分水岭:对边界清晰的双连体可尝试温和的分割,但不要用极端迭代把单细胞分裂成多片。

5. 活/死判读阈值(Viability Gate)

  • 明场+台盼蓝:根据吸光/对比差异设定阈值;若出现“浅染死细胞”或“深染活细胞”错分,先检查染色时间与比例,再微调阈值。

  • 荧光活死染:以阳性、阴性对照定门,再在批间维持同一模板,确保纵向可比。


五、优化工作流:从“拍得到”到“拍得准”

下面给出一套可复用的“十步法”,每个新细胞系或新工艺上线时执行一遍,之后即可固化为模板:

  1. 准备对照:同时上样三类微型对照——清洁空白、标准珠或健康细胞、已知高死率样本。

  2. 设定浓度:把目标样本调至推荐浓度窗,做 1:2 或 1:4 梯度,观察计数稳定性。

  3. 控液层:同一张片上不同位置取像,确认亮度均一与无明显厚薄差。

  4. 定照明:从中等亮度起步,避免极端;用直方图确认无饱和。

  5. 定焦点:自动对焦后轻微微调至边缘对比最大点,锁定。

  6. 定曝光:明场以灰度分离清晰为准;荧光以单染阈值清晰可分为准。

  7. 粗分割:用默认形态门限跑一遍,观察叠图吻合度。

  8. 细门限:按“尺寸→圆度→阈值”的顺序微调,每次只动一个旋钮,记录前后变化。

  9. 聚集处理:先统计聚集体比例;必要时再启用温和的拆分策略。

  10. 模板固化:把成功参数存为“细胞系/场景/日期”的模板名,附带备注(染色、浓度、玻片类型)。


六、常见问题与快速排查

1. 计数偏高且直径峰值异常偏小

多由碎片/噪点入选导致。对策:提高尺寸下限,略增圆度阈值;检查样本是否有裂解碎片,必要时洗涤或更换缓冲体系。

2. 计数偏低且聚集体比例高

多为团聚被当作单体或被排除。对策:优化解离与重悬;降低尺寸上限并启用聚集标记;必要时用滤网去团。

3. 活率离散、重复性差

多因染色时间不一、读片延迟、液层不均。对策:统一“混匀—上片—拍摄”的节拍(如 30–60 秒内完成);使用相同批次染料与固定比例;成像前让液层静置 10–20 秒以稳定沉降。

4. 图像局部发亮或发暗

疑似背照不均或片面污染。对策:更换载片,清洁光路与片槽;若仍存在,降低外部环境光并复位照明强度。

5. 边缘发虚、双影或拖尾

多数为离焦或厚层导致。对策:重做薄层均一铺展;对焦到对比最大处;避免在样本尚未稳定时立即曝光。

6. 荧光溢出或串扰

对策:逐通道单染定标;缩短曝光或减小增益;若滤块可选,使用交叉更小的组合;必要时降低染料浓度。


七、不同场景的参数建议

1. 贴壁细胞消化后计数

  • 形态差异大、碎片较多:提高尺寸下限;圆度阈值中等;适当提高对比阈值。

  • 若细胞拉长:避免圆度阈值过高以免误排除。

2. 悬浮细胞/PBMC

  • 细胞小、背景“雪花点”多:尺寸下限略降但叠加圆度与对比的双阈值;照明偏中高,拉开明暗层次。

  • 容易团聚:对样本先做机械温和打散,聚集识别优先。

3. 单细胞测序前 QC

  • 目标是“稳定可分割、聚集体尽量少”:尺寸上下限收紧、聚集体标记开启;分割宁可保守,避免错分。

  • 将“聚集体比例”“直径分布 CV”纳入放行标准。

4. 高死率样本或药物处理后

  • 台盼蓝染更明显,但碎片也多:提高尺寸下限,适度提高对比阈值;活/死门限以对照样本重新校准。

5. 细胞核计数(FL 机型)

  • 背景弱、信噪比关键:曝光略短以防核强信号饱和;尺寸上限显著下调以排除胞质残片;必要时开启去噪平滑再分割。


八、质量控制:把“优化”纳入 SOP

图像优化不应是临时发挥,而要制度化。建议建立以下文件化与记录化机制:

  • 模板库:不同细胞系、不同应用(传代、转染、单细胞、毒理)的模板独立存储,禁止随拍随改破坏基线。

  • 对照板:每周以标准珠或健康对照样本复测关键模板,记录计数、直径、CV、阈值是否被修改。

  • 溯源记录:每次计数随图像保存原始叠图与 CSV 指标,文件名包含样本号、操作者、模板名与时间戳。

  • 偏差管理:设定“预警线”(如活率/直径漂移超过均值±2SD),自动触发复核与设备清洁检查。

  • 培训与复核:新同事上岗先走“十步法”,通过对照样本打分合格后方可独立操作。


九、进阶技巧与经验法则

  • 一次只改一个参数:分割异常时,按“尺寸→圆度→对比”的顺序,微幅调整并记录结果,避免多参数联动导致“黑箱”。

  • 以“分布”为师:直径直方图与灰度直方图是最好的诊断工具;双峰、长尾往往提示混合群体或伪影夹杂。

  • 先工艺、后算法:遇到严重团聚、厚层、强伪影,优先回到样本与上片工艺层面解决,不要指望算法“奇迹修复”。

  • 模板冻结:一旦模板通过验证,在同一项目周期内尽量不动;若必须修改,建立版本号与变更记录。

  • 以“放行标准”导向优化:优化并非追求图像极致锐利,而是稳定达成项目放行标准(计数、活率、聚集体比例、重复性)的最小充分条件。