一、清洗液的作用与重要性
清洗液的作用主要有以下几个方面：
去除残留物：清洗液能够有效去除样品溶液、标准溶液以及基体样品可能带来的沉积物、干扰物质和污染物。
防止交叉污染：长时间使用ICP-MS时，样品残留物可能影响后续的分析，清洗液可以避免不同样品之间的交叉污染。
延长仪器使用寿命：定期清洗可以避免仪器内部管路系统和喷雾室发生堵塞或结垢，减少由于污染导致的仪器损坏或性能下降。
提高分析精度：清洗液能够保持分析过程中的清洁，确保测量结果的可靠性和准确性。
二、清洗液的基本要求
强溶解性：清洗液需要能够溶解大多数常见的金属元素、无机化合物及其他残留物，尤其是难溶物质。
适当的酸碱度：清洗液的pH值应适中，避免过于强酸或强碱，防止损害设备或影响测量结果。
低腐蚀性：清洗液应具备低腐蚀性，避免对ICP-MS的管路、雾化器、探头等部件造成损害。
无污染：清洗液应尽可能纯净，避免引入其他元素或污染物，影响分析结果。
三、清洗液的类型
根据清洗的不同部位和用途，ICP-MS清洗液一般可以分为以下几种类型：
喷雾室清洗液：
喷雾室是ICP-MS的核心部件之一，清洗液需要具备较强的溶解力，能清除由样品气溶胶形成的污染物。常见的清洗液有：去离子水：最常见的基础清洗液，用于去除普通的水溶性污染物。
10% 硝酸溶液：能去除一些金属污染物，如钙、镁、铝等。
10% 盐酸溶液：常用于清洗由某些非金属污染的喷雾室。
管路清洗液：
ICP-MS的管路系统如果有污染物积聚，可能导致传输效率降低或信号漂移，因此也需要定期清洗。常用的清洗液包括：5% 硝酸溶液：有效去除管路系统中的金属离子和其他杂质。
5% 盐酸溶液：用于去除管路系统中的金属沉积物，尤其适用于处理高浓度金属样品后的清洗。
去离子水：常用于日常维护，帮助去除水溶性杂质。
喷雾器和雾化器清洗液：
喷雾器和雾化器是ICP-MS中的重要部件，受污染时会影响样品气溶胶的雾化效果，降低分析灵敏度。常见的清洗液包括：去离子水：基本清洗，用于去除喷雾器中的水溶性杂质。
2% 氢氟酸溶液：适用于清洗富含硅、磷等成分的沉积物，能够有效溶解其沉积物。
接口清洗液：
ICP-MS的接口部分需要定期清洗，防止由于污染导致的信号噪声或干扰。通常使用较为温和的清洗溶液，如：0.1% 盐酸溶液：能够有效清除接口中的金属离子和微量元素。
去离子水：清洗后的最后一道步骤，确保接口部分没有残留的清洗液。
四、清洗液的配置方案
下面是一个标准的ICP-MS清洗液配置方案，适用于赛默飞iCAP RQ ICP-MS的日常维护和清洗。
1. 去离子水
去离子水作为清洗液的基础溶液，在大多数情况下是首选清洗液，尤其是在清洗管路和喷雾室时。配置方法非常简单，只需要使用实验室级去离子水即可。
2. 10% 硝酸溶液
配制方法：
取10mL浓硝酸，加入到90mL去离子水中，搅拌均匀，得到10%的硝酸溶液。
用于喷雾室、管路系统、喷雾器等部位的清洗。
注意事项：
配制时应戴上手套和护目镜，硝酸有强烈的腐蚀性。
清洗后，使用大量去离子水冲洗残留的硝酸溶液。
3. 10% 盐酸溶液
配制方法：
取10mL浓盐酸，加入到90mL去离子水中，搅拌均匀，得到10%的盐酸溶液。
用于清洗喷雾室、管路等部位。
注意事项：
配制盐酸溶液时应注意通风，避免吸入有害气体。
盐酸溶液使用后，建议使用去离子水彻底清洗残留液体。
4. 2% 氢氟酸溶液
配制方法：
取2mL浓氢氟酸，加入到98mL去离子水中，搅拌均匀，得到2%的氢氟酸溶液。
主要用于清洗喷雾器和雾化器。
注意事项：
氢氟酸非常腐蚀性，配制和使用时应穿戴专业防护服、手套和护目镜，并在通风良好的环境中进行。
使用氢氟酸溶液后，应用去离子水充分清洗。
5. 5% 氢氧化铵溶液
配制方法：
取5g氢氧化铵（NH₄OH）溶解于100mL去离子水中，得到5%的氢氧化铵溶液。
主要用于清洗酸性不容易去除的金属污染。
注意事项：
配制时应确保搅拌均匀，并储存于密闭容器中，避免挥发。
五、清洗过程中的注意事项
清洗顺序：清洗液的使用顺序应按照从低浓度到高浓度逐步清洗，避免不同清洗液相互混合造成反应。
清洗频率：通常每使用一段时间后进行一次彻底清洗，具体时间间隔应根据实验情况来决定。
清洗液的更换：清洗液在使用过程中可能会被污染，因此需要定期更换，确保清洗效果。
六、总结
ICP-MS仪器的清洗是确保设备长期稳定运行的关键，选择合适的清洗液以及科学的清洗流程能够有效提高分析精度，延长仪器使用寿命。赛默飞iCAP RQ ICP-MS的清洗液配置方案以去离子水、硝酸、盐酸、氢氟酸等常见化学试剂为基础，针对不同部件进行合理的清洗。通过定期、科学的清洗，能够有效避免污染物对仪器的影响，保证测量结果的可靠性。
